特点
应用特点一
应用特点一
应用特点一
应用特点一
半导体刻蚀设备
如果把芯片比作一幅平面雕刻作品，那么光刻机是打草稿的画笔；刻蚀机则是雕刻刀；沉积的薄膜则是用来雕刻的材料。光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸，而刻蚀和薄膜沉积的精度则决定了光刻的尺寸能否实际加工，因此光刻、刻蚀和薄膜沉积设备是芯片加工过程中最重要的三类主设备，占前道设备的近 70%。
概述
应用特点一
如果把芯片比作一幅平面雕刻作品，那么光刻机是打草稿的画笔；刻蚀机则是雕刻刀；沉积的薄膜则是用来雕刻的材料。光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸，而刻蚀和薄膜沉积的精度则决定了光刻的尺寸能否实际加工，因此光刻、刻蚀和薄膜沉积设备是芯片加工过程中最重要的三类主设备，占前道设备的近 70%。
应用特点二
如果把芯片比作一幅平面雕刻作品，那么光刻机是打草稿的画笔；刻蚀机则是雕刻刀；沉积的薄膜则是用来雕刻的材料。光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸，而刻蚀和薄膜沉积的精度则决定了光刻的尺寸能否实际加工，因此光刻、刻蚀和薄膜沉积设备是芯片加工过程中最重要的三类主设备，占前道设备的近 70%。
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